產(chǎn)品分類
        產(chǎn)品資料

        在線式真空共晶爐

        • 如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以
        • 產(chǎn)品名稱:在線式真空共晶爐
        • 產(chǎn)品型號(hào):
        • 產(chǎn)品展商:燕園科技
        • 產(chǎn)品文檔:無相關(guān)文檔
        簡單介紹

        應(yīng)用領(lǐng)域:IGBT封裝、LED共晶、焊膏工藝、高潔凈焊片工藝、激光二級(jí)管封裝、混合集成電路封裝、管殼蓋板封裝,mems及真空封裝等。 行業(yè)應(yīng)用:V系列真空回流焊機(jī)是R&D、工藝研發(fā)、高產(chǎn)能生產(chǎn)的選擇,是**企業(yè)、研究院所、高校、航空航天等領(lǐng)域**研發(fā)和生產(chǎn)的選擇。 產(chǎn)品焊接空洞率低至3%以下。

        產(chǎn)品描述

        型   號(hào)

        VEF-V8N

        加熱部分參數(shù)

        預(yù)區(qū)數(shù)量

        上8/下8

        加熱區(qū)長度

        3000mm

        冷卻區(qū)數(shù)量

        上2個(gè)/下2個(gè)

        真空區(qū)部分

        真空區(qū)數(shù)量

        1個(gè) 

        *大產(chǎn)品面積

        *小產(chǎn)品100*100MM;*大產(chǎn)品300*350MM,

        極限真空

        10-100pa

        真空抽速

        40m3/h  可調(diào)

        視覺觀察窗口

        1個(gè)

        助焊劑回收系統(tǒng)

        減少設(shè)備的保養(yǎng)次數(shù),增加配件使用壽命

        系統(tǒng)控制

        工業(yè)觸摸屏+西門子PLC

        工藝控制動(dòng)作

        抽真空時(shí)間、真空壓力、抽真空抽速、真空維持時(shí)間、放氣時(shí)間自由控制設(shè)定

        傳動(dòng)部分參數(shù)

        網(wǎng)帶寬度

        450MM

        運(yùn)輸導(dǎo)軌調(diào)節(jié)范圍

        50-400MM

        傳送方向

        L-R(R-L)

        運(yùn)輸高度

        網(wǎng)帶880±20MM;鏈條900±20MM

        傳送方式

        網(wǎng)帶傳動(dòng);網(wǎng)帶+鏈條傳動(dòng)

        傳送速度

        300-2000mm/min

        控制部分參數(shù)

        電源

        三項(xiàng)五線 380V    50/60HZ

        啟動(dòng)功率

        52KW

        正常工作消耗

        Approx.10KW

        升溫時(shí)間

        20min

        溫度控制范圍

        室溫-350度

        溫度控制方式

        全電腦PID閉環(huán)控制,SSR驅(qū)動(dòng)

        整機(jī)控制方式

        工業(yè)觸摸屏+西門子PLC

        溫度控制精度

        ±1度

        PCB板溫度分布差

        ±3度

        冷卻方式


        冷水冷卻

        報(bào)警


           溫度異常(恒溫后超高溫或超低溫 )

        三色燈指示


        三色信號(hào)指示燈:黃-升溫  綠-恒溫  紅-異常

        機(jī)體參數(shù)


        重量

        Approx.2800kg

        外形尺寸

        L5650*W1400*H1600

        排風(fēng)量要求


        10立方/min  2通道φ180mm

        氮?dú)獠糠?/span>


        氮?dú)獗Wo(hù)裝置

        氮?dú)饬髁?0-30立方/小時(shí)  氧濃度500-800PPM

        外置水冷系統(tǒng)

        功率3P   制冷速度 ≥3-6度/sec



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