- 如果您對該產(chǎn)品感興趣的話，可以
- 產(chǎn)品名稱：SiC高溫氧化爐
- 產(chǎn)品型號：
- 產(chǎn)品展商：其它品牌
- 產(chǎn)品文檔：無相關(guān)文檔
簡單介紹
專用于SiC晶圓的高溫氧化工藝，可實現(xiàn)晶圓片高溫真空環(huán)境下完成氧化工藝。可使用O2,N2O，NO，NO2或濕法氧化，采用無金屬加熱和真空裝備。 適用工藝：氧化
產(chǎn)品描述
技術(shù)指標：
? 晶片尺寸：6-8英寸
? 制程溫度范圍: 800-1600°C
? 批次片數(shù): 50-75片
產(chǎn)品特點：
? 采用立式結(jié)構(gòu)、工藝控制好、溫度分布均勻、氣流穩(wěn)定
?Robot自動傳送
? 多點控溫，溫度均勻
? 具有多種報警功能及設(shè)備保護功能